- 金相切割机-金相试样切割机
- QG-1金相试样切割机
- Q-2金相试样切割机
- QG-2岩相切割机
- Q-3A金相试样切割机
- QG-4A金相试样切割机
- QG-5A金相试样切割机
- QG-100金相试样切割机
- QG-100Z自动金相试样切割机
- QG-300三轴金相试样切割机
- ZQ-40无级双室自动金相试样切割机
- ZQ-50自动精密金相试样切割机
- ZQ-100/A/C自动金相试样切割机
- ZQ-150F无级三轴自动金相试样切割机
- ZQ-200/A无级三轴金相试样切割机
- ZQ-300F无级三轴自动金相试样切割机
- ZQ-300Z自动金相试样切割机
- ZD-500大型液压伺服金相试样切割机
- 金相磨抛机-金相试样磨抛机
- MPD-1金相试样磨抛机(单盘无级)
- MPD-2金相试样磨抛机(双盘单控)
- MP-3A金相试样磨抛机(三盘无级)
- MP-2A金相试样磨抛机(双盘无级)
- MPD-2A金相试样磨抛机(双盘无级)
- MPD-2W金相试样磨抛机(双盘无级)
- ZMP-1000金相试样磨抛机(单盘8试样)
- ZMP-2000金相试样磨抛机(双盘8试样)
- ZMP-3000 智能化金相试样磨抛机
- ZMP-1000ZS智能薄片自动磨抛机
- BMP-1000 半自动金相试样磨抛机
- BMP-2000 半自动金相试样磨抛机
- 金相镶嵌机-金相试样镶嵌机
- XQ-2B金相试样镶嵌机(手动)
- ZXQ-2金相试样镶嵌机(自动)
- AXQ-5金相试样镶嵌机(自动)
- AXQ-50金相试样镶嵌机(智能,一体机)
- AXQ-100金相试样镶嵌机(智能,一体机,双室)
- 金相抛光机-金相试样抛光机
- P-1单盘金相试样抛光机(Φ200,380V)
- P-1A单盘金相试样抛光机(Φ200,380V)
- P-2立式双盘金相试样抛光机(Φ200,380V)
- P-2A柜式双盘金相试样抛光机(Φ200,380V)
- LP-2双盘立式金相试样抛光机(Φ200,380V)
- PG-2A双盘柜式金相试样抛光机(Φ220,380V)
- PG-2C双盘立式金相试样抛光机(Φ220,380V)
- P-2T双盘台式金相试样抛光机(Φ220,380V)
- 金相预磨机-金相试样预磨机
- YM-1单盘金相试样预磨机(Φ200,380V)
- YM-2双盘金相试样研磨机(Φ230,380V)
- YM-2A双盘金相试样预磨机(Φ230,380V)
金相磨平机-金相试样磨平机
MPJ-35柜式金相试样磨平机(350*40*40)
MPJ-25台式金相试样磨平机(250*30*32)
MY-1光谱砂带磨样机(W100*L920)
MY-2A双盘砂带磨样机
- 进口金相制样设备
- 进口金相切割机
- 进口金相磨抛机
- 进口金相镶嵌机
- 进口金相显微镜
- 金相显微镜
- 4XB双目金相显微镜
- AMM-8/D/P/T/ST三目倒置金相显微镜
- 4XC/D/P/T/ST三目卧式金相显微镜
- AMM-200/D/P/T/ST三目正置金相显微镜
- 金相技术及金相耗材
- 金相案例
- 金相技术
- 金相镶嵌料
- 金相切割砂轮片
- 金相研磨膏
- 金相砂纸
- 金相抛光粉
- 金相抛光织物
- 公司简介
- 公司理念
- 联系我们
- 售后服务
- 金相新闻
- 金相友情链接
- 金相试样抛光机 洛氏硬度计
- 金相试样抛光机 万能试验机
- 电子试验机 金相试样抛光机
- 全自动精密抛光机 金相试样抛光机
- 圆度仪 轮廓仪 自准直仪
- 自准直仪 硬度计
- 生物显微镜 金相显微镜
- 金相试样抛光机 影像测量仪
- 上海研润光机科技有限公司前身是国家仪器技
- 术研究所，成立于2005年，是一家以研发、
- 生产、非标定制自动化生产检测设备，计算机
- 软件开发为主的高新技术企业。主导产品：材
- 料仪器、光学仪器、自动化生产检测设备等。
|
|
|
| 较粗糙的表面任意两点光学距离测量金相试样切割机 |
| 本站文字和内容版权为上海研润光学金相试样切割机金相试样切割机制造厂所有http://www.cnnoet.net;转载请注明出处 |
|
较粗糙的表面任意两点光学距离测量金相试样切割机全息照像干涉测量和普通干涉测量是有区别的。它能利用同一个光路记录不同时刻的波前，这就能用由真实物体所得到的干涉图与标准物体干涉图进行比较。此时，一般说来，对光学器件的质量要求并不十分重要。因为即使光学零件不完善，两个干涉波的变化程度仍是一样的。 较粗糙的表面，用全息照像干涉测量技术比较方便，只是在全息图方向上要散射足够的光量。它不需要比较标准样件，就可以进行任意的相对测量。例如，可以测量当表面变形或受压缩时，表面移动的情况。这时，原始的表面状况，可以用作最终表面状况的标准样件全息照像干涉测量技术可以在不同时间以真实比例进行两次曝光。这样就可以同时见到物体变形的干涉图象的变化。实际上的问题在于，在显影之后～定要把全息图放还到记录时的原始位置上。 再现时，可同时照射全息图和物体。如果以原来的参考光波照射全息图，使之精确地还原到原始状态，则所成的虚像不仅象这个物体的精制复制品，而且能与空间的物体相重合，也有着与物体相同性能的光散射袭面形状。为此，观察时必须使物体光束和参考光束形成的干涉组织与记录在全息图上的组织重合，其精确度要达到条纹间距离的十分之一以内。如果物体光束和参考光束之间的角度小，这也是容易做到的。 如果物体受到变形，那么，由观察点到表面上任意点的光学距离也起变化，这个距离是相当予标准样品表面(虚像表面)各点的相对距离，由表面各点到照射两个表面的光源的距离也发生变化。由同一部位上、但是从表面位移部位上散射的相干光束，在由光源到观察平面的光路上，相应地得到了相对的相位移动。由于相位的移动，以及由它引起的形成光波振幅的变化，产生了干涉图象。这种图象可以表示物体表面变形的性质。
|
合作站点:
合作站点:
合作站点:
合作站点:
|
|
