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检测体视金相试样磨抛机的特点-变焦和改变倍率十分简单 |
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电子设备检测体视金相试样磨抛机可在一定放大倍数范围内调节物镜 体视金相试样磨抛机有三个有用的特性,即工作距离大、景深好和目镜有宽阔的平面视场。 对体视金相试样磨抛机下方目标照明的光线通常由附在与物镜底部间一水平上的环形光源提供。还可采用其他问接照明形式。如光纤光源。 体视金相试样磨抛机一般未配备透射光系统(从样品底部照明)或配备人射(反射)光系统(光线经物镜向下反射到样品上,再往回经金相试样磨抛机向上反射)。 用于大多数电子设备故障分析工作的金相试样磨抛机类型属于低放大倍数的体视金相试样磨抛机。 通常。这类金相试样磨抛机有一个能利用变焦距环在一定放大倍数范围内调节的物镜。 放大倍数的范用一般为所用目镜放大倍数的0.6~0.4 倍。对于10X的目镜。放大倍数的范围是6~40X.对于20x 的目镜。放大倍数的范围为12~80X. 这使体视金相试样磨抛机的使用十分简单。
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